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Qual o intervalo típico de energia de íons em processo RIE?
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As alternativas abaixo se referem ao processo de deposição química a partir de vapor em baixa pressão.
I – É um processo controlado pela taxa de reação.
II – A temperatura deve ser muito bem controlada e uniforme em todas as superfícies do wafer.
III – Um fluxo constante e uniforme de gases reagentes deve alcançar todas as superfícies do wafer.
Assinale a alternativa com a(s) afirmativa(s) correta(s).
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Um engenheiro realizou diversos testes de caracterização de um capacitor MOS variando a tensão aplicada a seus terminais e medindo a capacitância. Analise as seguintes sentenças:
I) A capacitância varia monotonicamente com a tensão.
II) A variação da capacitância é linear com relação à tensão.
III) A curva CV (Capacitância versus Tensão) apresenta um máximo de capacitância.
Este engenheiro pode concluir que estão corretas as sentenças:
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O gentílico que se refere a quem nasce no estado do Mato Grosso do Sul é sul-mato-grossense ou mato-grossense-do-sul.
Esses dois adjetivos, quanto ao processo de formação, devem ser classificados
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O número de flip-flops tipo D necessários para se construir um contador Johnson com módulo 16 é
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Para que servem as lentes eletrostáticas no sistema de implantações de íons?
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Ao escanear uma rede em busca de vulnerabilidades que pudesse explorar, um hacker recebeu respostas das portas 80, 25 e 110. Nestas condições, ele pôde deduzir que:
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Um funcionário que trabalha exposto a agentes insalubres e perigosos tem direito a receber
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Qual é o desbalanceamento de uma linha de produção com 5 estações, considerando que a duração do ciclo requerida é de 1 minuto/unidade e o tempo padrão-total exigido para montar cada unidade é igual a 240 segundos?
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Entre os principais indicadores de função de RH de uma organização, não cabe incluir o seguinte item:
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