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Foram encontradas 1.834 questões.

1408038 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
Um empacotamento de multi-chip-module (MCM) é composto por 4 dies idênticos fabricados com um processo que possui um rendimento de 90%. Qual é o rendimento estimado para a montagem MCM?
 

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1408022 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
Qual das alternativas apresenta os empacotamentos em ordem crescente de eficiência de empacotamento?
 

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1408013 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
Qual alternativa está errada no que tange aos objetivos da automação industrial?
 

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1407986 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
A respeito do microscópio de feixe de íons focalizados – FIB – e seu uso em análise de falhas de circuitos integrados, pode-se afirmar, EXCETO:
 

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1407966 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
Assinale a opção que apresenta a vantagem em utilizar silicetos de metais refratários para contatos.
 

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Assinale a afirmação incorreta a respeito da segurança de redes de computadores:
 

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1407867 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
A falta da adesão do fotorresiste em muitas películas da superfície do filme é um problema geralmente encontrado no processamento do silício. A fim de promover a adesão, a superfície da lâmina é tratada com um promotor de adesão como o hexametildisilazano (HMDS, (H3C)3-Si-NH-Si-(CH3)3) antes da aplicação do fotorresiste. Esse tratamento fornece uma boa adesão do fotorresiste para uma variedade de filmes, incluindo o dióxido de silício contendo o fósforo, silício policristalino, nitreto de silício (Si3N4) e o alumínio. O HMDS pode ser aplicado diretamente sobre o substrato ou aplicado em pressão reduzida, em um forno a vácuo, com o objetivo principal de
 

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1407856 Ano: 2012
Disciplina: TI - Banco de Dados
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
Quatro níveis de isolamento são definidos em SQL. Assinale a alternativa que identifica os quatro níveis:
 

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1407822 Ano: 2012
Disciplina: Administração Geral
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
O desenho de salários visa à concretização das estratégias de pessoal, por intermédio da realização de alguns objetivos. Corresponde a um objetivo do sistema de remuneração organizacional:
 

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1407798 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
A simulação de um processo de oxidação térmica sobre uma lâmina de Si apresentou uma espessura total de 1000 nm do óxido de Si obtido. Qual a espessura da camada superficial de Si que foi consumida durante o processo de oxidação?
 

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