Texto para a questão

Para a deposição de filmes finos, podem-se utilizar diferentes técnicas baseadas na interação entre um plasma e o substrato. Essas técnicas diferem entre si em termos do tipo de descarga que é utilizada para produzir o plasma, da pressão de operação, do uso de campo magnético e da presença ou não de feixes de elétrons e íons. É certo que esses parâmetros influenciam o tempo de deposição, a profundidade de imersão dos íons e a espessura do filme fino, de tal forma que é possível encontrar uma técnica ótima para cada tipo de deposição.

O plasma é produzido à pressão atmosférica em alguns dos dispositivos desenvolvidos para a deposição de filmes finos. Com relação a esse assunto, assinale a opção correta.